OTSUKA大塚电子 光谱椭偏仪FE-5000/5000S

2023-01-09 10:00:04 admin

除了可以进行高精度薄膜分析的光谱椭偏仪外,我们还通过实现测量角度的自动可变机构来支持所有类型的薄膜。除了传统的旋转式光子检测器方法外,还通过提供相位差板的自

动装卸机构提高了测量精度。

特殊长度

,可在紫外-可见(300-800 nm)波长范围内测量EIlipso参数

。纳米级多层薄膜厚度分析成为可能

。可以通过400ch以上的多通道光谱快速测量椭圆光谱

。支持通过可变反射角测量对薄膜进行详细分析

。通过创建光学常数数据库并添加配方注册功能,提高了可操作性。

测量项目

,椭圆参数(tan中,cos△)测量

。光学常数(n:折射率,k:消光系数)分析

。膜厚分析

测量对象

半导体晶片

栅氧化薄膜、氟化膜

SiO2、Six Oy.SiNSiONSiNx、AI2 O3、SiNx Oy.poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN

的光学常数(波长色散)抵抗

,化合物半导体

AIxGa(1-x)作为多层膜、非晶硅

FPD

取向膜

各种新材料

DLC(类金刚石碳)、超导用薄膜、磁头用薄膜

光学薄膜

TiO2.SiO2.减反射膜


规格

FE-5000S FE-5000

样本量 *大100x100mm *大200x200mm

测量方法 旋转光子法*1

测量膜厚范围(nd) 0.1nm~1从m

入射(反射)角范围 45-90* 45-90°

入射(反射)角驱动方式 自动正弦杆驱动系统

光斑直径*2 $20 ∅12sup*3

tan中测量精度 ±0.01或更小

cos△测量精度 ±0.01或更小

可重复的薄膜厚度 0.01%以下*4

波长范围*5 300-800nm 300-800nm

测量用光源 高稳定性氙灯*和

舞台驱动系统 手动的 手动自动

装载机兼容 不可能的 可能的

尺寸、重量 650(W)x400(D)x593(H)毫米1300(宽)X890(深)X1750(高)mm

50kg 350kg* 7

*1可驱动分离器,可装卸对死区有效的相位差板。

*2因短轴和角度而异。

*3与微小斑点兼容(选项)

*4使用VLSI标准Si02薄膜(100nm)时的值。

*5这是选择自动阶段时的值。

测量示例

使用倾斜模型对ITO进行结构分析

I丌O(氧化铟锡)是用于液晶显示器的透明电极材料,由于成膜后的退火处理(热处理),其导电性和颜色得到改善。此时,氧态和结晶度也发生变化,但这

种变化可能相对于薄膜的厚度呈阶梯式变化,不能视为具有光学均匀组成的单层薄膜。

对于这种ITO,我们将介绍一个使用倾斜模型从上界面和下界面的nk测量倾斜度的示例。


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2023.1.9

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